sem扫描电镜喷金工艺的优缺点你知道多少呢？

小编在之前的文章中带大家了解过扫描电镜为什么要喷金。那么样品导电膜的制备技术又有哪些呢？样品喷金又有哪些特点呢？sem扫描电镜喷金工艺都有哪些，下面小编继续为您介绍。

1、理想膜层的特点：

①良好的导热和导电性能。

②在3-4nm分辨率尺度内不显示其几何形貌特点，避免引入不必要的人为图像。 

③不管样品的表面形貌如何，覆盖在所有部位的膜层需要薄厚均匀。

④膜层对样品明显的化学成分有干扰，也不显著的改变从样品中发射的X射线强度。这层膜主要增加样品表面的导电性能和导热性能，导电金属膜层的厚度普遍电位在1-10nm。

2、扫描电镜喷金工艺 

在样品表面形成薄膜有多种方法，对于sem扫描电镜和X射线显微分析，只有热蒸发和离子溅射镀膜实用。

蒸发镀膜：许多金属和无机绝缘体在真空中被某种方法加热，当温度足够高，蒸发气压达到1.3Pa以上时，就会迅速蒸发为单原子。

优点：可提供碳和多种金属的镀层，镀层精细均匀，适合非常粗糙的样品，高分辨研究。可以喷碳，有利于对样品中非碳元素的能谱分析。非导电样品观察背散射电子图像，进行EBSD分析，也应该喷碳处理。

缺点：这种方法容易对样品产生污染，蒸发温度过高，会损伤热敏感材料。

离子溅射镀膜：高能离子或者中性原子撞击某个靶材表面，把动量释放给几个纳米范围内的原子，碰撞时某些靶材原子得到足够的能量断开与周围原子的结合健，并且被移位。如果撞击原子的力量足够，就能把表面原子溅射出靶材。

一般用钨丝篮作为电阻加热装置，把小于1毫米以下的金属丝缠绕在在其表面。就像在白炽灯灯丝上，或者电炉的加热丝上加上需要蒸发的金属；也有用加热坩埚，蒸发金属粉末。

离子束溅射：氩气态离子枪，发射的离子，被加速到1-30kev，经过准直器或一个简单的电子透镜系统，聚焦形成撞击靶材的离子束。高能离子撞击靶材原子，原子以0-100ev的能量发射，这些原子沉积到样品与靶材有视线的范围内的所有表面。可以实现1.0nm分辨率镀膜。