扫描电镜测样有什么要注意的？

1.SEM扫描电镜对试样的要求：试样可以是块状或是粉末颗粒，在真空中保持稳定，含有水分的试样应先烘干除去水分，或使用临界点干燥设备进行处理。表面受到污染的试样，要在不破坏试样表面结构的前提下进行适当清洗，然后烘干。新断开的断口或断面，一般不需要进行处理，以免破坏断口或表面的结构状态。有些试样的表面、断口需要进行适当的侵蚀，才能暴露出某些结构细节，在侵蚀后应将表面或断口清洗干净，然后烘干。对磁性试样要预先去磁，以免观察时电子束受到磁场的影响。

2.扫描电镜的块状试样制备是比较简便的。对于块状导电材料，除了大小要适合仪器样品座尺寸外，基本上不需进行什么制备，用导电胶把试样粘结在样品座上，即可放在SEM扫描电镜中观察。对于块状的非导电或导电性较差的材料，要先进行镀膜处理，在材料表面形成一层导电膜。以避免电荷积累，影响图像质量。并可以防止试样的热损伤。

3.粉末试样的制备：先将导电胶或双面胶纸粘结在样品座上，再均匀地把粉末样撒在上面，用洗耳球吹去没有粘住的粉末，再镀上一层导电膜，即可上扫描电镜观察。

4. SEM扫描电镜镀膜:镀膜的方法有两种，一是真空镀膜，另一种是离子溅射镀膜。离子溅射镀膜的原理：在低气压系统中，气体分子在相隔一定距离的阳尤和阴尤之间的强电场作用下电离成正离子和电子，正离子飞向阴尤，电子飞向阳尤，二电尤间形成辉光放电，在辉光放电过程中，具有一定动量的正离子撞击阴尤，使阴尤表面的原子被逐出，称溅射，如果阴尤表面为用来镀膜的材料，需要镀膜的样品放在作为阳尤的样品台上，则被正离子轰击而溅射出来的靶材原子沉积在试样上，形成一定厚度的镀膜层。

离子溅射时常用的气体为惰性气体氩，要求不高时，也可以用空气，气压约为5X10*-2Torr。离子溅射镀膜与真空镀膜相比，其主要优点是：①装置结构简单，使用方便，溅射一次只需几分钟，而真空镀膜则要半个小时以上。②消耗贵金属少，每次仅约几毫克。③对同一种镀膜材料，离子溅射镀膜质量好，能形成颗粒更细、更致密、更均匀、附着力更强的膜。因此，扫描电镜如果需要很好的试样制备，需要注意以上的要点，这样测试出来的数据会更加的准确哦。